| 品牌 | 中国计量科学研究院 | 供货周期 | 现货 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 综合 | 1片 | 11.10nm |
本 主要用于薄膜厚度测量和表面化学分析（深度剖析）仪器设备的检定/校准、分析方法的确认与评价、技术仲裁测量以及测量质量控制等。一、 样品制备本 系通过原子层沉积技术在单晶硅基底上生长二氧化硅纳米薄膜成批制备而成，切割形成正方形片状样品（10mm×10mm×0.7mm）。二、 溯源性及定值方法本 采用两种的不同原理方法（掠入射 X 射线反射测量和椭偏测量）进行定值，以两种定值方法测量结果的总平均值作为标准值。通过使用满足计量学特性要求的测量方法和计量器具，保证 量值的溯源性。
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